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三、材料與化學(xué)品

1. Photoresist(光刻膠)——正膠（Positive）/負(fù)膠（Negative）

2. Reticle/Mask(掩模版)——光刻用模板

3. Silicon Wafer(硅片)——常用尺寸：6英寸、12英寸

4. Die(芯片)——切割后的單個(gè)晶片

5. Argon(Ar,氬氣)/Nitrogen(N2,氮?dú)?——工藝氣體

四、質(zhì)量控制與檢測

1. Yield(良率)——合格芯片比例

2. Defect(缺陷)——影響良率的異常點(diǎn)

3. Critical Dimension(CD,關(guān)鍵尺寸)——圖形的最小線寬

五、職位與部門

1. Process Engineer(工藝工程師)——優(yōu)化制造流程

2. Equipment Engineer(設(shè)備工程師)——維護(hù)生產(chǎn)設(shè)備

3. Quality Engineer(質(zhì)量工程師)——確保產(chǎn)品符合標(biāo)準(zhǔn)

4. R&D Engineer(研發(fā)工程師)——新技術(shù)開發(fā)

5. Technician(技術(shù)員)——設(shè)備操作與維護(hù)

六、行業(yè)術(shù)語與縮略語

1. CMOA——互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體

2. FinFET——鰭式場效應(yīng)晶體管

3. ASIC——專用集成電路

4. DRAM——?jiǎng)討B(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器

5. FMEA——故障模式與影響分析

6. OEE(Overall Equipment Effectiveness)——設(shè)備綜合效率