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目前，在半導(dǎo)體制造時(shí)，需要對(duì)硅片進(jìn)行顯影，在顯影時(shí)用到的涂膠顯影機(jī)如圖1所示，其工作原理如下:首先，硅片I被傳送到位于托盤3中心位置的吸盤2上，當(dāng)硅片I的中心位直與吸盤2的中心位直對(duì)齊時(shí)，啟動(dòng)吸盤2吸住娃片I ;然后，在娃片I正面嗔涂顯影液，硅片I靜止顯影；最后，顯影完成后，吸盤2帶動(dòng)硅片I旋轉(zhuǎn)，甩掉殘留物，顯影完成。在上述顯影過(guò)程中，涂覆到硅片I表面的顯影液很容易流到硅片I的背面，尤其是流到硅片I與吸盤2接觸的地方，造成硅片I背面沾污，被沾污部分的硅片會(huì)報(bào)廢，增加了半導(dǎo)體的制造成本。 實(shí)施例提供了一種涂膠顯影機(jī)及其使用方法，用以解決現(xiàn)有的涂膠顯影機(jī)在顯影時(shí)造成硅片沾污，增加半導(dǎo)體制造成本的問(wèn)題。本發(fā)明實(shí)施例提供的一種涂膠顯影機(jī)，包括:托盤和位于所述托盤中心位置的吸盤，還包括:設(shè)置在所述托盤上的多個(gè)背洗孔，所述多個(gè)背洗孔圍繞在所述吸盤外側(cè)，用于在硅片顯影完成后對(duì)所述硅片沖水，清洗所述硅片背面的顯影液。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種使用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述涂膠顯影機(jī)顯影的方法，包括:當(dāng)硅片的中心位置與涂膠顯影機(jī)的吸盤的中心位置對(duì)齊后，啟動(dòng)所述吸盤吸住所述硅片；在所述硅片正面噴涂顯影液顯影完成后，所述吸盤帶動(dòng)所述硅片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)，所述涂膠顯影機(jī)的背洗孔對(duì)所述硅片沖水，清洗所述硅片背面的顯影液；在沖水完成后，所述吸盤帶動(dòng)所述硅片旋轉(zhuǎn)，直至所述硅片背面的水全部甩干。本發(fā)明實(shí)施例的有益效果包括:本發(fā)明實(shí)施例提供的一種涂膠顯影機(jī)及其使用方法，包括:托盤和位于托盤中心位置的吸盤，還包括:設(shè)置在托盤上的多個(gè)背洗孔，多個(gè)背洗孔圍繞在吸盤外側(cè)，用于在硅片顯影完成后對(duì)硅片沖水，清洗硅片背面的顯影液。由于本發(fā)明實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)與現(xiàn)有技術(shù)中的涂膠顯影機(jī)相比，增加了圍繞在吸盤外側(cè)的多個(gè)背洗孔，能夠在硅片顯影完成后對(duì)硅片進(jìn)行沖水，清洗掉硅片背面的顯影液，避免了硅片背面沾污，提高了產(chǎn)品的良率，從而節(jié)約了半導(dǎo)體的制造成本