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晶圓級封裝的五項基本工藝
在本文中將重點介紹半導體封裝中的重要方法——晶圓級封裝(WLP)。本文我們將探討晶圓級封裝的五項基本工藝,包括:光刻(Photolithography)工藝、濺射(Sputtering)工藝、電渡(Electroplating)工藝、光刻膠去膠(PR Stripping)工藝和金屬刻蝕(Metal Etching)工藝。
來源:
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作者:
pmoe2a7d5
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發布時間:
2024-01-29
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